El programa entrega herramientas y metodologías para profesionalizar el rol de mentores y emprendedores. El evento es 100% online y se puede postular desde cualquier lugar de Chile.
Hasta el 10 de octubre hay plazo para postular al programa de mentoring que realiza la Universidad Técnica Federico Santa María a través del Instituto 3IE. La iniciativa está dirigida a empresarios, mentores, emprendedores con experiencia, profesionales o académicos que tengan interés en apoyar a emprendedores y/o equipos de proyectos en las distintas etapas del desarrollo de sus iniciativas, a través de módulos enfocados en el desarrollo de habilidades personales del mentor, de conocimientos del proceso de mentoring, de estrategias comerciales, de marketing, de negocios, de ventas, y de escalamiento de una startup.
Desarrollado por un equipo de relatores certificados y con experiencia en mentoring, el programa tiene por finalidad profesionalizar el rol del mentor, entregar herramientas y metodologías que complementen la experiencia y los conocimientos de los futuros mentores y mentoras durante los procesos de mentoring y establecer distinciones y buenas prácticas asociadas a este rol.
Werner Kristjanpoller, director del Instituto 3IE y académico del Departamento de Industrias de la USM, señala que “esta será la segunda versión del año 2021 completamente online, lo cual nos da la oportunidad de seguir ampliando nuestras fronteras y potenciando las habilidades de los profesionales que ejercen la labor del mentoring, para lo cual es fundamental contar con la metodología y herramientas entregadas a través de esta certificación”.
Cabe destacar que la Red de Mentores 3IE de la USM es pionera en programas de formación y certificación de mentores en Chile. En sus 10 versiones anteriores han participado más de 150 profesionales tanto de la Red 3IE como de importantes instituciones del ecosistema de emprendimiento a nivel nacional.
Para más información y para postular debes escribir al mail [email protected] o completar el siguiente formulario.
